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JVAM-2型非自耗电弧炉

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JVAM-2型非自耗电弧炉

专门用于真空熔融、合金化反应性和高熔点金属材料，适合实验室、工厂用于材料研究、开发、质量控制等；

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非自耗电弧炉

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参数

1.设备用途：

1.1 专门用于真空熔融、合金化反应性和高熔点金属材料，适合实验室、工厂用于材料研究、开发、质量控制等；
1.2 采用吸铸法制备块状或棒状合金试样，可用于制备大块非晶材料；

2.结构特点：

2.1 电弧枪手动升降，周向手动摆动，采用球面密封；
2.2 固定式的水冷铜坩埚上设有四个熔炼工位（一个用于吸铸）；其中二个熔炼工位可电磁搅拌；
2.3 机械手用于翻转或转移小样品；无接触的高频引弧；
2.4 真空室采用卧式前开门结构，便于清理坩埚及真空室内壁，方便更换钨电极；

3. 技术指标：

熔融温度范围	室温~ 4000℃	极限真空度（分子泵系统）	5 x 10^-4 Pa
压升率	≤0.67Pa/H	通入工作气氛	氩气
工作压力范围	0.3 - 0.7bar	固定式水冷铜坩埚熔炼工位	4个
熔炼电流	50-500A	单工位熔炼合金量	30-150克（以钢计）

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