JVAM-1型非自耗电弧炉

产品分类
分类出来
-
实验室真空冶金专用设备
-
纳米及微米粉生产装备
-
真空镀膜设备
-
真空电弧熔炼设备
-
真空感应熔炼设备
-
真空热处理炉
-
高温热压成型设备
-
大块非晶制备设备
-
定向凝固设备
-
润湿性、粘度测试及特种冶金设备
-
大型真空热工装备
产品详情
浏览量:
1013
1
产品描述
参数
1、 设备用途:利用电阻加热产生热能,将待成膜的物质置于真空中进行蒸发或升华,使之在基片表面析出的过程。用于制备各类有机物薄膜、金属膜、导电薄膜、半导体薄膜、光学薄膜等,广泛应用于大专院校、科研机构的科研及小批量的生产。
2.技术数据:
极限真空度(分子泵系统) | 7.0×10-5Pa | 压升率 | ≤6.7×10-1Pa/H |
真空室尺寸 | Ф500×450mm | 电阻蒸发源功率 | 1KW |
电阻蒸发源数量 | 2套,可切换 | 水冷电极 | 3套 |
样品台升降机构尺寸 | 50×50mm | 监控膜厚显示范围 | 0~99μm |
2.1主真空室立式圆筒型真空室,双层水冷
2.2真空系统配置分子泵,机械泵,高真空手动插板阀
3.技术规格:OLED-1 型
扫二维码用手机看
上一个
无
下一个
无
相关产品
OFFICIAL ACCOUNTS
公众号
欢迎关注我们的官方网站

ONLINE MESSAGE
请您留言
客户留言
描述:
版权所有 © 沈阳金研新材料制备技术有限公司 备案号:辽ICP备16001020号 网站建设:中企动力 沈阳 本网站已支持IPv6