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非自耗真空电弧炉

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非自耗真空电弧炉
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产品描述
参数

1. 设备用途：采用电弧等离子体加热原理熔炼制备各种金属材料，是新材料研发与小规模生产的关键设备；
1.1 金属、金属间化合物及半导体材料试样的制备
1.2 材料致密化与提纯
1.3 大块非晶试样制备
1.4 电弧高温热处理
1.5 特种合金试样制备与生产

2.技术数据：

熔融温度范围 室温~ 4000℃ 极限真空度（分子泵系统） 5 × 10-4 Pa
压升率 ≤0.67Pa/H 通入工作气氛 氩气
工作压力范围 0.3 - 0.7bar 典型电动旋转坩埚熔炼工位 10个
熔炼电流 50-1250A 单工位熔炼合金量 30-150克（以钢计）　

　

2.1炉体：方型，全不锈钢制造，双层水冷结构
2.2 熔池：紫铜制造，双层水冷结构
2.3 电极： 水冷电极 钨极
2.4 每一熔池均有电磁搅拌
2.5 具有倾转浇注和吸铸功能
2.6 直流电源，高频自动起弧
2.7 分子泵真空机组
2.8 控制系统可选：
PC/PLC全自动控制
手动触摸屏控制
手动按钮控制.

3.技术规格：JVAM-1A （基本型）；JVAM-1B （带浇铸或吸铸）；JVAM-1C（带浇铸吸铸）；JVAM-2 ；JVAM-Z（全自动型）；JVAM-3

 

 

 

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