JVAM-1型非自耗电弧炉
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大型真空热工装备
产品详情
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产品描述
参数
1、 设备用途：制备各种Ⅲ-V族、Ⅱ-Ⅵ族化合物半导体以及它们的多元固溶体的薄层单晶材料的设备，包括研发型、中试型和生产型设备；
1.1 石英管式感应加热反应系统用于羟基，羰基金属化合物的反应提纯，生产高纯金属；
1.2 不锈钢封闭炉室，射频感应加热，用于化合物半导体材料的薄膜生长等，适合大专院校、科研院所对化合物半导体材料薄膜的科研与小批量制备
2.技术数据：
| 温度范围 | 室温-1200°C | 控温精度 | ±1℃ |
| 极限真空度（分子泵系统） | 6.67×10-5Pa（冷态） | 压升率 | <0.33Pa/H |
| 工艺压力 | 13.3-266Pa | 加热方式 |
石英管反应器，外部线圈高频感应加热； 不锈钢反应器，射频感应石墨基底加热； |
2.1带质量流量控制器的气体混合系统；
2.2可采用3-5路金属有机源，4-6路气态源
2.3装片能力1-6片
2.4配备进气管路温度控制系统
2.5配备尾气分解及无害排放处理系统
2.6选配手套箱
2.7设备可靠性高，重复性强
3.技术规格：JMOC/G型 G 代表石英管式； JMOC/M型 M 代表不锈钢封闭式；
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